募集要項

応募資格

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜応募資格/応募条件＞
必須条件：
・化学系の大学または大学院を卒業している、
　もしくは化学系企業での開発経験を有すること
・低分子化合物の合成経験、もしくは高分子重合の経験
推奨条件：
・高分子・低分子いずれにおいても量産規模での合成経験
・半導体材料・電子材料に使用される化学薬品の取り扱い経験
・語学力（特に英語）
・量子科学計算、データサイエンス、機械学習などの知識・経験
・各種分析の経験（例：HPLC、GPC、NMRなど）
・部門・社内外との連携が円滑に行えるコミュニケーション力

＜語学力＞
歓迎条件：英語中級

雇用形態

正社員

年収・給与

＜予定年収＞
530万円〜670万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：280,000円〜330,000円

＜月給＞
280,000円〜330,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
予定年収は基礎給と賞与のみの参考年収です。（実際には各種手当および時間外手当が加算されます）
賞与実績：年2回（計7.13ヶ月分、前年度実績）

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

勤務地

横浜市、川崎市、その他神奈川県
＜勤務地詳細＞
TTIC(TOK技術革新センター)
住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所

交通

＜転勤＞
当面なし

＜オンライン面接＞
可

特徴

• 35歳以上も歓迎
• フレックス勤務
• 年間休日120日以上
• 週休2日制
• 社宅・家賃補助制度
• 退職金制度
• 産休・育休取得実績あり

勤務時間

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制
コアタイム：10:00〜15:00
フレキシブルタイム：6:00〜10:00、15:00〜22:00
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:30〜17:15

＜その他就業時間補足＞
平均残業時間16.4時間

待遇・福利厚生

通勤手当、家族手当、住宅手当、寮社宅、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、厚生年金基金、退職金制度

＜各手当・制度補足＞
通勤手当：実費支給
家族手当：会社規定による
住宅手当：会社規定による
寮社宅：入寮条件あり
社会保険：各種社会保険完備、健保組合あり
厚生年金基金：補足事項なし
退職金制度：補足事項なし

＜定年＞
65歳

＜育休取得実績＞
有（育休後復帰率100%）

＜教育制度・資格補助補足＞
OJTとなります。
昇格のタイミングで各種階層別教育を受講いただきます。また資格取得奨励金制度もございます。

＜その他補足＞
各種社会保険完備、健康保険組合、企業年金基金、社員持株会、財形貯蓄、住宅援助金制度、各種クラブ活動、食費補助、退職金制度、旅行補助金　他(※HPに詳細情報あり)
＜雇用形態補足＞
期間の定め：無
補足事項なし

＜試用期間＞
3ヶ月
※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30 〜17:15 の勤務時間となります）

休日・休暇

完全週休2日制（休日は土日祝日）
年間有給休暇10日〜20日（下限日数は、入社直後の付与日数となります）
年間休日日数123日

完全週休2日制（土・日・祝）、年末年始。
年次有給休暇（入社初年度：入社日をもって3日間付与、入社4カ月目3日付与、入社7カ月目より入社月別に付与。以降年度ごとに付与し最大20日）、慶弔休暇など

完全週休2日制

注意事項

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　（2）採用条件に合致した方については、ご入力いただいた情報にて、そのまま企業への応募手続きをいたします。
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　※ご経験やご経歴などから、この求人情報へのご応募がいただけない場合があります。あらかじめご了承ください。

企業情報

社名

東京応化工業株式会社

業種

化学・石油・ガラス・セラミック・セメント(メーカー)

事業内容

〜様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア〜
概要：「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。
事業内容：
・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造
材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品：フォトレジスト、高機能化学薬品
詳細：
1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト（感光性有機樹脂）の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。