具体的な業務内容
【横浜】光学設計（電子ビームマスク描画装置）〜第二新卒歓迎／世界シェア90％超メーカー〜
【マスク描画装置世界シェア90％超／海外売上高比率80％／月平均残業25時間／年休125日】
■業務内容：
次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する業務となります。広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計でのご活躍を期待しております。
■組織構成：
30名（電子光学設計担当、電子鏡筒開発担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。
■採用背景：
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化に向け、詳細な光学設計検討が必要となります。
描画装置の心臓ともいえる光学設計者層を厚くする目的の人材募集です。
■電子ビームマスク描画装置：
電子ビームによる描画制御技術をコア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の高度な要素技術を統合した装置です。
多岐にわたる技術を結集したシステム装置であり、最先端技術を融合した複合技術の集大成であるといえます。
【高速・高精度制御技術】
電子源から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成します。
複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルオーダーの位置精度が要求されます。
【超精密機械制御技術】
平面内を移動可能なステージ上にフォトマスクが置かれ、連続的に移動させながら回路パターンを描画します。ステージはレーザ干渉計という精密なセンサーからの位置情報を用いて、フィードバック制御されます。
【大容量情報処理技術】
テラバイト級の大容量データを、最先端のプロセッサを用いて並列処理し、高速に演算する技術を開発・実用化しています。
※同社エンジニアの技術力で表彰・学術論文寄稿・書籍出版等有
チーム／組織構成
