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日本研一(株)
当社は半導体用フォトレジスト材料の研究開発を進めており、ArF、KrF、EUV向けフォトレジストの配合設計および材料選定に精通した技術専門家を求めおります。 研究開発チームと連携し、製品戦略・材料体系の高度化を図ります。 ■ArF／KrF／EUVフォトレジストの配合設計指針の策定 ■キー材料（PAG、樹脂等）の選定・仕様要件の評価支援 ■業界動向・競合製品の技術分析、市場理解に基づく提案 ■社内研究チームへの技術助言、材料開発の方向性提示 ■中長期的な製品開発ロードマップ作成への参画
契約・嘱託社員
大阪市、その他大阪府
09:00～ 18:00
年収700～ 1000万円
【いずれか必須】 ■高分子化学、有機化学、材料科学など関連分野の修士以上 ■ArF／KrF／EUVレジストの配合構造と材料特性に関する深い知見
■フォトレジスト業界および主要企業の材料戦略に対する理解 ★自ら実験や合成を行う必要はありませんが、研究開発の方向性や配合最適化に対する提案能力を重視しております。 【尚可】 ■大手材料メーカー、レジストメーカー、研究機関等での実務経験
